Toska / Lia Muriel León Echeverria

Por: León Echeverria, Lia Muriel | LCI Fundación Tecnológica Bogotá (Colombia)Tipo de material: TextoTextoIdioma: Español Editor: Bogotá : LCI , 2017Descripción: 82 p. : il. , fots. ; 28 cm. +Cd-RomTema(s): Maquillaje artístico | Maquillaje artístico -- Surrealismo | Maquillaje artístico -- Movimiento Low-BrowOtra clasificación: T-MAQ
Contenidos:
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Nota de disertación: Maquillaje Artístico. Resumen: Trabajo inspirado en el movimiento artístico Low-Brow o surrealismo pop; se presentan artistas como Mark Ryden, Nicoletta Ceccoli, Ray Caesar entre otros.

Maquillaje Artístico.

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Trabajo inspirado en el movimiento artístico Low-Brow o surrealismo pop; se presentan artistas como Mark Ryden, Nicoletta Ceccoli, Ray Caesar entre otros.

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