Auschwitz : campos de concentración / María Camila Saavedra Prado

Por: Saavedra Prado, María Camila | LCI Fundación Tecnológica Bogotá (Colombia)Tipo de material: TextoTextoIdioma: Spa Editor: Bogotá : LCI , 2018Descripción: 62 p. : il., fots. ; 28 cm. +Cd-RomTema(s): Maquillaje artístico | Maquillaje -- Técnicas profesionales | Maquillaje -- Aspectos psicológicos | Maquillaje -- Campos de concentraciónOtra clasificación: T-MAQ
Contenidos:
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Nota de disertación: Maquillaje Artístico.Técnico Profesional en Maquillaje Artístico. Resumen: Crear un personaje basado en la vida dentro de los campos de concentración y mostrar las condiciones en que vivían, tanto físicas como emocionalmente.

Maquillaje Artístico.

Técnico Profesional en Maquillaje Artístico.

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Crear un personaje basado en la vida dentro de los campos de concentración y mostrar las condiciones en que vivían, tanto físicas como emocionalmente.

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